北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm （D）
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V （DC）可調(diào) 。

產(chǎn)品型號(hào)：GH/ETD-2000C

更新時(shí)間：2024-10-24

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：743

產(chǎn)品咨詢 15313095671

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產(chǎn)品分類

實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備、化行業(yè)工設(shè)備

測(cè)汞儀腐蝕率測(cè)定儀反應(yīng)釜、反應(yīng)器旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器恒溫水浴/油浴磁力攪拌器/電動(dòng)攪拌器、攪拌機(jī) 粉碎機(jī)/破碎機(jī)/研磨機(jī)/球磨機(jī) 微波反應(yīng)器/消解儀離心機(jī)/離心泵、蠕動(dòng)泵比重計(jì)/密度計(jì) 培養(yǎng)箱/試驗(yàn)箱/干燥箱/氣候箱滅菌器/接種器真空泵/循環(huán)泵/循環(huán)器定氮儀/吹氮儀/定硫儀干燥機(jī)/冷凍機(jī) 天平/秤露點(diǎn)儀、水分儀/水分測(cè)定儀振蕩器/搖床滴定儀/庫(kù)侖儀瀝青檢測(cè)儀、絕緣油檢測(cè)設(shè)備粘度計(jì) 熔點(diǎn)儀蒸餾器/蒸餾水器溶出杯/溶出試驗(yàn)儀真空表/水表、界面張力儀電爐/馬弗爐/電阻爐混合器/混勻器/均質(zhì)器勻漿器/乳化機(jī)/分散機(jī)/均化儀超聲波清洗器其他實(shí)驗(yàn)室化工設(shè)備

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產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)

離子濺射/蒸碳一體機(jī) 濺射蒸碳儀

型號(hào)：GH/ETD-2000C

技術(shù)參數(shù)
北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)配置參數(shù)如下：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時(shí)： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）

北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)主要特點(diǎn)
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。

儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
技術(shù)參數(shù)
配置參數(shù)如下：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時(shí)： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
主要特點(diǎn)
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。
儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
技術(shù)參數(shù)
配置參數(shù)如下：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時(shí)： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
主要特點(diǎn)
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。
儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。